天科创达
产品中心
OUR PRODUCTS
浏览量:
926

PT-05-LF小型等离子清洗机

小型等离子清洗机在自动清洗模式下,系统参数设定是通过触摸式一体化机完成的,其中射频功率、清洗时间、充气种类、充气数量等都可通过触摸屏设定,如果需要混合气体清洗,可选择对应的不同充气管路,并分别设置充气流量,抽气本底压强等中间控制点,可通过真空计设置。
零售价
0.0
市场价
0.0
浏览量:
917
产品编号
数量
-
+
库存:
0
产品详情
参数

小型等离子清洗机清洗流程有两种运行模式:手动模式和自动模式。其中手动模式下,所有的功能部件均可通过面板按钮控制启停,包括射频电源和匹配网络,此种模式主要用于设备调试和清洗工艺摸索;自动模式用于批量化生产,预先设置好运行参数后(射频功率、清洗时间、充气流量等),启动清洗程序,系统可自动完成清洗过程。
  小型等离子清洗机在自动清洗模式下,系统参数设定是通过触摸式一体化机完成的,其中射频功率、清洗时间、充气种类、充气数量等都可通过触摸屏设定,如果需要混合气体清洗,可选择对应的不同充气管路,并分别设置充气流量,抽气本底压强等中间控制点,可通过真空计设置。
  小型等离子清洗机清洗过程中,运行的数据和参数在触摸屏上统一显示,包括系统真空度、充气流量、射频输出功率、清洗时间等,以上参数还具有存储记录功能,按采样时间连续采集并存储,待工艺分析和追溯。
  系统自动执行过程中,有自诊断和保护功能,当出现真空系统漏气、反射功率过大等情况时,系统会自动终止运行程序,并给出事件报警提示,确保安全稳定运行。
  等离子体中的自由基会与材料表面的污染物发生化学反应。其反应机理主要是自由基与污染物反应生成新的物质,化学反应的效率与压力有关,压力较高时,电离的自由基数量多,反应快,因此如果等离子清洗以化学反应为主,就要加大充气流量,控制较高的反应室压力。

功能介绍:表面清洗和活化

  等离子体其中包括原子、分子、离子、电子、活性基团、激发态原子、活化的分子及自由基,这些粒子的能量和活性很高,其能量足以破坏几乎所有的化学键,在任何暴露的表面引起化学反应,从而有些化学键被打开后结合上氧原子等高活性的物质,使得材料表面亲水性得到极大提高,同时对材料表面的油污等有机大分子新的化学反应,生成气态小分子,例如二氧化碳,水气等气态物质被真空泵抽走,从而达到对材料表面分子级别的清洗。

  在粘接/bonding/印刷/喷漆/镀膜/封装等工序时让产品可靠性更高,良品率更好。

 

设备基本参数(联系我们了解更多详细资料)

 

型号

PT-05-LF

整机尺寸(mm)

485(W)×650(D)×525(H)

重量(Kg)

60

真空腔体

Φ150mm; D260mm

托盘

W145mm;D260mm

 

射频电源

输出频率

40KHz / 13.56MHz

***大功率

200W / 150W

负载阻抗

50Ω

真空测量

量程

1×10-2~1×105

工艺气路

2路工艺气体管道

浮子流量计

控制系统

西门子PLC+MCGS触摸屏

软件功能

手动模式和自动模式

真空泵

可选油泵或干泵

外部电源

220V;50/60Hz

其他说明

设备配置可根据要求定制

 

应用场景

 

12.jpg

扫二维码用手机看
未找到相应参数组,请于后台属性模板中添加
下一个

联系方式

电话:4006-888-927

手机:15011229190  18500694965

传真:010-89717262

邮箱:sales@tianketech.com

地址:北京市昌平区科技园区创新路11号创业大厦610

扫一扫,关注天科创达

二维码