等离子去胶机在真空等离子去胶机反响室中受高频及微波能量效果，电离发生氧离子、游离态氧原子、氧分子和电子等混合的等离子体，在干法等离子去胶技术中，氧是首要腐蚀气体。等离子去胶机进行去胶操作后的表面干净光洁、没有任何的划痕、成本低、环保，******的简单，并且效率高。一般在电容耦合等离子体平行板反应器上，等离子去胶机在进行刻蚀时会被应用，反应离子刻蚀腔体所采用的不对称设计是阴极面积小，阳极面积大，而需要被刻蚀的物件则是被放置到面积较小的电极之上。

等离子去胶机操作方法是平行气流方向在石英舟中插入待去胶片，并推入真空室两电极间，抽真空到1.3Pa，通入恰当氧气，坚持真空室压力在1.3-13Pa，在电极间加高频功率，不一样去胶速率可经过调理功率、流量等技术参数得到，这时发生淡紫色辉光放电；当胶膜去净时，辉光不见。等离子去胶机射频电源在进行刻蚀操作时，受到所产生的热运动的影响，质量小、运动速度快的带负电自由电子很快到达阴极，而在阴极附近，由于质量大、速度慢的正离子很难在同一时刻达到阴极，从而就会形成带负电的鞘层，正离子在这个鞘层的加速之下，就会垂直的轰击在硅片的表面，从而使得表面的化学反应变快，并且会使得反应生成物脱离，因此其刻蚀速度极快，离子的轰击也会使各向异性刻蚀得以实现。